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电子束蒸发的应用

[ 信息发布:本站 | 发布时间:2018-12-04 | 浏览:882次 ]

电子束蒸发的应用-宝鸡睿钛金属

电子束蒸发镀制TiO2薄膜



一、 镀膜原理  

电子束蒸发镀制TiO2薄膜,采用下图所示的离子束辅助电子束蒸发的INTEGRITY-39全自动光学镀膜系统。


1.冷却水进口;2.冷却水出口;3.坩埚;4.束流线圈;5.电子束发射器;6.加热灯;7.基片架;8.电机;9.监控片;10.离子源
镀制样品电子枪工作电压为10 kV,电流为200 A,真空室沉积温度为145155。膜料选用纯度为99.99%的黑色颗粒状Ti2O3,采用CC-105冷阴极离子束进行辅助沉积,沉积时真空室充入纯度为99.99%O2作为反应气体,同时使用1179AMKS质量流量计控制反应气体O2的流量,基底为直径25 mm的圆形K9玻璃。  

镀膜前基底先用玻璃液清洗,去离子水漂洗,氮气吹干,然后用纯度为99.9%的丙酮、无水乙醇超声波各清洗15 min,用专用擦拭纸擦干后装入真空室。  

镀制时用机械泵和扩散泵将真空度抽至6.5×10-4Pa时,设定自动镀制程序。当基底被加热到沉积温度150时,离子源开始轰击基底,能量控制在6090 eV,时间10 min。然后自动启动电子枪加热蒸发膜料,沉积薄膜,沉积速率0.380.42 nm/s,薄膜沉积到设计厚度440 nm时,程序自动关闭电子枪,完成镀制。  

镀膜后真空室自然冷却到室温取出样品,用Lambda900(测试范围为1753 300 nm)分光光度计进行样品TiO2的光谱测试,采用Macleod软件包络法计算TiO2薄膜的实际厚度,消光系数和折射率。  

对真空室通入不同流量的高纯氧气,研究不同的真空度对TiO2的成膜质量、折射率、吸收系数的影响。 





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